EM-Tec silicon nitride membrane jsou filmy nejnovější generace z nitridu křemíku. Jsou to napěťově optimalizované filmy bez defektů. Jako nosič slouží nově vyvinutý robustní hexagonální křemíkový rámeček s referenční značkou na obvodu. Více o rámečku naleznete zde. Vlastnosti nitridu křemíku umožňují produkci TEM podpůrného filmu, který je pevný, chemicky odolný, neobsahuje uhlík a vyznačuje se i malým příspěvkem k signálu pozadí. Tím se stává ideálním pro aplikace jako jsou zobrazování nanočástic, kvantitativní analýza uhlíku, chemické experimentování na podložním filmu, pozorování chemických reakcí a růstu krystalů v reálném čase, výzkum tenkých vrstev, pozorování růstu buněk na podložním filmu a pro řadu dalších výzkumných technik v mikroskopii.

EM-Tec silicon nitride membrane se dodává na nosném křemíkovém rámečku o rozměrech shodných s klasickou síťkou. Pole má okno o velikosti 1,0 x 0,25 mm, síla membrány je 200nm, síla podložního substrátu je 100 um. Rámečky jsou uloženy do trezorku, dodávka obsahuje 25 ks rámečků s membránou.     

TECHNICKÉ PARAMETRY