Nano-Tec gold coated silicon wafer Ø4inch/100mm, 525µm thickness, 50nm Au, 3 ks/bal
Nákupem tohoto produktu získáte 0 kreditů.
Nano-Tec gold coated silicon wafer Ø4inch/100mm, 525µm thickness, 50nm Au, 3 ks/bal
Nano-Tec gold coated silicon wafer Ø4inch/100mm, 525µm thickness, 50nm Au, 3 ks/bal
Nano-Tec gold coated silicon wafers jsou vhodné při výzkumu tenkých vrstev, AFM/SPM, v oblastech nanotechnologií a biotechnologií. Křemíkové plátky jsou opatřeny adhezní vrstvou chromu (5nm). Na ni se nanáší vrstva 50nm čistého zlata. Obě tyto vrstvy se nanášejí ve speciálním jednoúčelovém vysokovakuovém zařízení se zdrojem elektronového svazku. Vrstva zlata není absolutně hladká, jsou zde výškové diference v řádu nanometrů. Maximální teplota použití je cca 175°C; při vyšších teplotách může docházet ke štěpení zlatého filmu. Dodávají se ve dvou velikostech: ø51mm a ø100mm. Pozlacené křemíkové plátky jsou baleny jednotlivě v obalech wafer carrier tray.